Entegris与JSR旗下Inpria已就极紫外（EUV）光刻用金属氧化物光刻胶（MOR）专利签署非独占交叉许可协议。同时，双方正在进行的专利无效审判（IPR2025-00267）也将作为协议的一部分终结。

协议范围

交叉许可对象涵盖MOR光刻胶配方、前驱体合成以及MOR专用超高纯度过滤三大领域。MOR作为替代传统化学放大型光刻胶（CAR）的下一代EUV光刻胶材料，正在持续开发，Inpria则是该领域的先行企业之一。此次协议使擅长过滤与材料的Entegris，以及负责光刻胶本体的Inpria，能够相互利用对方专利。

IP争议终结及其目的

根据此次协议，正在进行的IPR2025-00267（Inter Partes Review）将被撤回。双方将本次合作定位为面向AI时代扩大EUV先进材料规模的战略举措，意在消除专利争端后推进材料开发。

背景：高NA EUV与MOR量产难题

随着先进逻辑和存储器继续微缩，高NA（高数值孔径）EUV正在启动，MOR光刻胶因高分辨率和低线边缘粗糙度等特性受到期待。另一方面，缺陷和纯度控制一直被视为量产采用的难点。材料供应链中的知识产权梳理与合作，可被视为MOR走向量产采用的铺垫。

对采购和供应链的启示

EUV光刻胶是供应商高度集中的战略材料，知识产权争端会成为供应链不确定性来源。此次争端解决与合作，意味着先进材料供应稳定性提升以及MOR采用向前推进；对于负责先进节点材料采购的团队而言，这是一个供应风险下降的信号。Entegris在10多个国家拥有制造和研发基地，员工约7,700人。

参考事实卡